電極拉制成功后,其尖兒端必須作優(yōu)化處理,如用熱拋光的方法使電極尖兒端光滑,周圍均勻,以提高實驗過程中的封接成功率.微電極拋光儀BV-10 或電極熔鍛儀就是為了實現(xiàn)上述操作處理而設計的.微電極拋光儀基本組成部件包括:一臺顯微鏡,附有兩種高低放大倍數(shù)的物鏡,分別作涂敷和熱拋光之用.

用途：

用于細胞內(nèi)記錄，打磨后可降低電極電阻，同時幫助電極刺入細胞（尤其是小細胞）。用于細胞內(nèi)注射，減小對細胞的損傷，促進注射物質(zhì)進入細胞

 

技術參數(shù)

• 可拉制電極尖兒端少于0.3微米
• 三組數(shù)字準確控制熱力和拉力
• 加熱絲分別為鉑金/銥金絲和錫烙合金絲
• 主機采用防銹物料制造
• 體積小，適合細小空間
• 適合微注射研究
• 根據(jù)選擇的打磨盤不同，可打磨口徑0.1-50μm的玻璃電極
• 打磨盤無振動，表面有磁力耦合。
• 大磨盤表面為半波長（250nm）光學平面。
• 同步鐘電動機確保穩(wěn)定轉(zhuǎn)速。
• 7磅重的底座增大了振動阻尼。
• 配有鹵素燈。
• 配有微操縱器，控制打磨的精度與角度。
• 打磨的差異：小于1.0μm
• 打磨速度：60RPM
• 打磨角度：5-90度可調(diào)
• 微操：粗調(diào)1.9mm，微調(diào)0.01mm
• 可選配體式顯微鏡（80x）和電極電阻測量儀
• 電極電阻測量儀測量范圍：0-10，0-100，0-500Ω
• 有多種型號選擇：BV-10-B（打磨儀），BV-10-C（打磨儀與電阻測量儀），BV-10-D（配有顯微鏡的打磨儀），BV-10-E（配有顯微鏡的打磨儀與電阻測量儀）。